Содержание
- 2. Данные о корреляции количества уровней металлизации СБИС с годом их выпуска в мире
- 3. Можно выделить шесть основных элементов многоуровневой металлизации СБИС: контактная система металлизации; проводниковые межсоединения; слои межуровневого диэлектрика;
- 5. Контактная система металлизации представляет собой омические и выпрямляющие контакты к кремнию. Проводниковые межсоединения – это проводники
- 6. Алюминий, как контактный материал и материал межсоединений обладает целым рядом ценных свойств, среди которых можно выделить:
- 7. Недостатки алюминия определяются в основном характером его физико-химического взаимодействия с кремнием. Основные из них: активное взаимодействие
- 8. Система Al-Si имеет диаграмму фазовых равновесий эвтектического типа. Al практически не растворяется в Si, в то
- 9. Схема растворения кремния алюминиевой пленкой: заполнение твердым раствором кремния в алюминии пустот, где растворился кремний, в
- 10. Технология изготовления межсоединений биполярных транзисторов с «полным» эмиттером: а) – после ионной имплантации; б) – после
- 11. Основные требования к системе металлизации определяются по следующим параметрам: удельное контактное сопротивление контакта к p+ и
- 12. Слои многослойной системы металлизации можно классифицировать на: основные, которые определяют теплоэлектрическое функционирование ИС в процессе эксплуатации,
- 13. Контактный слой (КС) – первый по отношению к полупроводнику, кремнию, слой, являющийся наиболее ответственным элементом системы
- 14. По характеру физико-химического взаимодействия с кремнием металлы делятся на две категории: металлы, образующие с кремнием эвтектическую
- 15. Проводящий слой (ПС) (по-другому, коммутирующая разводка или межсоединения) – последний по отношению к активной области полупроводникового
- 16. Диффузионно-барьерный слой (ДБС) – промежуточный слой между КС и ПС, назначение которого состоит в предотвращении какого-либо
- 17. Слой межуровневого диэлектрика (СМУД) – слой, который расположен между проводящими слоями, и назначение которого состоит в
- 18. К вспомогательным технологическим слоям (ВТС) можно отнести раскисляющий, адгезионный, антиотражающий и другие слои. В технологическом процессе
- 19. Назначение адгезионного слоя (АС) – обеспечение высокой адгезии, т.е. сцепления металлических слоев с диэлектрическими поверхностями (SiO2,
- 20. Раскисляющий слой (РС) – это тонкий слой химически активного по отношению к кислороду металла (Ti, Zr,
- 21. Антиотражающий слой (АОС) – слой с низким коэффициентом отражения, что необходимо на операции фотолитографии при совмещении
- 22. Стоп-слой – тонкий слой, который необходим для остановки процесса сухого травления. Например, этот слой нужен при
- 23. Структура многослойной металлизации с проводящим слоем на основе алюминия.
- 24. Образование пустот при формировании проводящего слоя методом физического осаждения из газовой фазы.
- 25. Схема формирования многоуровневой, многослойной системы металлизации с межсоединениями на основе алюминия.
- 26. Многослойная многоуровневая система металлизации с межсоединениями на основе алюминия применялась в субмикронных технологиях кремниевых ИС до
- 27. Многослойная многоуровневая система металлизации с медными межсоединениями. Главные преимущества меди как материала межсоединений перед алюминием –
- 28. Недостатки меди, как материала металлизации: Медь является опасной примесью для кремниевой технологии, т.к. является в кремнии
- 30. Скачать презентацию