Наноэлектроника. Физические основы. Методы формирования наноразмерных структур. Перенос носителей заряда
Содержание
- 2. СОДЕРЖАНИЕ ДИСЦИПЛИНЫ Раздел 1. Физические основы наноэлектроники Раздел 2. Методы формирования наноразмерных структур (нанотехнологии) Раздел 3.
- 3. Л И Т Е Р А Т У Р А e-library в лаборатории 119-1 отв. Стемпицкий
- 4. Наноэлектроника (nanoelectronics) это область науки и техники, занимающаяся созданием, исследованием и применением электронных приборов с нанометровыми
- 5. Типичные размеры различных объектов
- 6. Перспективные приборы для обработки информации* *International Technology Roadmap for Semiconductors, 2009 edition. Emerging research devices.
- 7. 1. Физические основы наноэлектроники * темы для самостоятельного изучения
- 8. 1.1.1. Квантовое ограничение (quantum confinement) 1.1. Фундаментальные явления в низкоразмерных структурах E1 E2 E3 n=1 n=2
- 9. Элементарные низкоразмерные структуры (elementary low-dimensional structures)
- 10. Люминесценция квантовых точек CdSe (luminescence of quantum dots)
- 11. 1.1.2. Баллистический транспорт носителей заряда (ballistic transport) средняя длина свободного пробега при упругом рассеянии средняя длина
- 12. Параметры, характеризующие транспорт электронов в Si и GaAs при низких температурах (~ 4 K)
- 13. Универсальная баллистическая проводимость (universal ballistic conductance) I = (μ1 – μ2)ev(dn/dμ) dn/dμ = 1/πħv (для 2
- 14. Квантовый точечный контакт (quantum point contact) G = N(2e2/h)
- 15. 1.1.3. Туннелирование носителей заряда (tunneling of charge carriers)*
- 16. Прозрачность туннельного барьера Надбарьерное прохождение электронов barrier for classical particles symmetric rectangular barrier δ-function barrier x1,
- 17. 1.1.4. Спиновые эффекты (spin effects)* x Спиновая поляризация электронов проводимости
- 18. Фундаментальные явления
- 19. 1.2.1. Свободная поверхность и межфазные границы (free surface and interfaces) 1.2. Элементы низкоразмерных структур Реконструкция поверхности
- 20. Адсорбция/десорбция (adsorption/desorption) molecular hydrogen on silicon
- 21. РОЛЬ МЕЖФАЗНЫХ ГРАНИЦ В ПЕРСПЕКТИВНЫХ РАЗРАБОТКАХ
- 22. 1.2.2. Сверхрешетки (superlattices) film material substrate material strained superlattice substrate substrate relaxed superlattice
- 23. Конструирование сверхрешеток из полупроводников правило Вегарда: a(x) = xa1 + (1 - x)a2
- 24. Псевдоморфные сверхрешетки (pseudomorphic superlattices)
- 25. Напряженная сверхрешетка (strained superlattice)
- 26. 1.2.3. Моделирование атомных конфигураций (simulation of atomic configurations) rj rji ri Молекулярная динамика (molecular dynamics) Потенциалы
- 27. Молекулярная механика (molecular mechanics)
- 28. The water density exhibits layering for liquid water (red/orange). Pores of radii smaller than 0.45 nm
- 29. 1.3.1. Квантовые колодцы (quantum wells)* 1.3. Структуры с квантовым ограничением внутренним электрическим полем Правило Андерсона (Anderson
- 30. Тип I Тип IIА Тип IIВ пространственно прямозонный пространственно непрямозонный Периодические квантовые колодцы (multiquantum wells)
- 31. 1.3.2. Модуляционно-легированные структуры (modulation-doped structures)* EF EF ΔEc semiconductor A semiconductor B Ec Ec 2DEG T
- 32. 1.3.3. Дельта-легированные структуры (delta-doped structures)*
- 33. 1.4.1. Структуры металл/диэлектрик/полупроводник (metal/insulator/semiconductor structures)* 1.4. Структуры с квантовым ограничением внешним электрическим полем
- 34. 1.4.2. Структуры с расщепленным затвором (split-gate structures)*
- 36. Скачать презентацию