Наноэлектроника. Физические основы. Методы формирования наноразмерных структур. Перенос носителей заряда

Содержание

Слайд 2

СОДЕРЖАНИЕ ДИСЦИПЛИНЫ Раздел 1. Физические основы наноэлектроники Раздел 2. Методы формирования

СОДЕРЖАНИЕ ДИСЦИПЛИНЫ

Раздел 1. Физические основы наноэлектроники

Раздел 2. Методы формирования

наноразмерных
структур (нанотехнологии)

Раздел 3. Перенос носителей заряда в
низкоразмерных структурах и приборы
на их основе

Слайд 3

Л И Т Е Р А Т У Р А e-library

Л И Т Е Р А Т У Р А

e-library

в лаборатории 119-1
отв. Стемпицкий Виктор Романович

В. Е. Борисенко, А. И. Воробьева,
А.Л. Данилюк, Е. А. Уткина
НАНОЭЛЕКТРОНИКА
(Бином, Москва, 2013)

V. E. Borisenko, S. Ossicini What is What in the Nanoworld (Wiley-VCH, Weinheim, 2012)

Слайд 4

Наноэлектроника (nanoelectronics) это область науки и техники, занимающаяся созданием, исследованием и

Наноэлектроника (nanoelectronics)
это область науки и техники, занимающаяся созданием, исследованием и применением

электронных приборов с нанометровыми размерами элементов, в основе функционирования которых лежат квантовые эффекты.

нанометровыми размерами элементов

квантовые эффекты

Слайд 5

Типичные размеры различных объектов

Типичные размеры различных объектов

Слайд 6

Перспективные приборы для обработки информации* *International Technology Roadmap for Semiconductors, 2009 edition. Emerging research devices.

Перспективные приборы для обработки информации*

*International Technology Roadmap for Semiconductors, 2009

edition. Emerging research devices.
Слайд 7

1. Физические основы наноэлектроники * темы для самостоятельного изучения

1. Физические основы наноэлектроники

* темы для самостоятельного изучения

Слайд 8

1.1.1. Квантовое ограничение (quantum confinement) 1.1. Фундаментальные явления в низкоразмерных структурах

1.1.1. Квантовое ограничение (quantum confinement)

1.1. Фундаментальные явления в низкоразмерных структурах

E1

E2

E3

n=1

n=2

n=3

λn

= 2a/n (n = 1, 2, ...)

kn = 2π/λn = nπ/a

free electrons:

confined electrons:

Ψ(x)

Слайд 9

Элементарные низкоразмерные структуры (elementary low-dimensional structures)

Элементарные низкоразмерные структуры
(elementary low-dimensional structures)

Слайд 10

Люминесценция квантовых точек CdSe (luminescence of quantum dots)

Люминесценция квантовых точек CdSe
(luminescence of quantum dots)

Слайд 11

1.1.2. Баллистический транспорт носителей заряда (ballistic transport) средняя длина свободного пробега

1.1.2. Баллистический транспорт носителей заряда (ballistic transport)

средняя длина свободного пробега


при упругом рассеянии

средняя длина свободного пробега
при неупругом рассеянии

длина фазовой когерентности

lϕ = (Dτϕ)1/2

lin = vFτϕ

le = vFτsc

τsc = Dd/vF2

EF → vF = (2EF/m*)1/2, kF = (2m*EF)1/2/ħ , λF = 2π/kF


кинетическое уравнение Больцмана

Слайд 12

Параметры, характеризующие транспорт электронов в Si и GaAs при низких температурах (~ 4 K)

Параметры, характеризующие транспорт электронов
в Si и GaAs при низких температурах

(~ 4 K)
Слайд 13

Универсальная баллистическая проводимость (universal ballistic conductance) I = (μ1 – μ2)ev(dn/dμ)

Универсальная баллистическая проводимость
(universal ballistic conductance)

I = (μ1 – μ2)ev(dn/dμ)


dn/dμ = 1/πħv (для 2 спинов)

(μ1 – μ2) = e(V1 – V2)

G = I/(V1 – V2)

G = e2/πħ = 2e2/h

e2/h = 38,740 мкСм, h/e2 = 25,812807 кОм

μ1 > μ2

Слайд 14

Квантовый точечный контакт (quantum point contact) G = N(2e2/h)

Квантовый точечный контакт
(quantum point contact)

G = N(2e2/h)

Слайд 15

1.1.3. Туннелирование носителей заряда (tunneling of charge carriers)*

1.1.3. Туннелирование носителей заряда
(tunneling of charge carriers)*

Слайд 16

Прозрачность туннельного барьера Надбарьерное прохождение электронов barrier for classical particles symmetric

Прозрачность туннельного барьера

Надбарьерное прохождение электронов

barrier for
classical
particles

symmetric
rectangular barrier

δ-function barrier

x1, x2

– turning points defined by U(x1) = U(x2) = E
Слайд 17

1.1.4. Спиновые эффекты (spin effects)* x Спиновая поляризация электронов проводимости

1.1.4. Спиновые эффекты (spin effects)*

x

Спиновая поляризация электронов проводимости

Слайд 18

Фундаментальные явления

Фундаментальные явления

Слайд 19

1.2.1. Свободная поверхность и межфазные границы (free surface and interfaces) 1.2.

1.2.1. Свободная поверхность и межфазные границы
(free surface and interfaces)

1.2.

Элементы низкоразмерных структур

Реконструкция поверхности (surface reconstruction)

нереконструированная
поверхность

реконструированная
поверхность

Слайд 20

Адсорбция/десорбция (adsorption/desorption) molecular hydrogen on silicon

Адсорбция/десорбция (adsorption/desorption)

molecular hydrogen on silicon

Слайд 21

РОЛЬ МЕЖФАЗНЫХ ГРАНИЦ В ПЕРСПЕКТИВНЫХ РАЗРАБОТКАХ

РОЛЬ МЕЖФАЗНЫХ ГРАНИЦ В ПЕРСПЕКТИВНЫХ РАЗРАБОТКАХ

Слайд 22

1.2.2. Сверхрешетки (superlattices) film material substrate material strained superlattice substrate substrate relaxed superlattice

1.2.2. Сверхрешетки (superlattices)

film material

substrate material

strained superlattice

substrate

substrate

relaxed superlattice

Слайд 23

Конструирование сверхрешеток из полупроводников правило Вегарда: a(x) = xa1 + (1 - x)a2

Конструирование сверхрешеток из полупроводников

правило Вегарда: a(x) = xa1 + (1

- x)a2
Слайд 24

Псевдоморфные сверхрешетки (pseudomorphic superlattices)

Псевдоморфные сверхрешетки
(pseudomorphic superlattices)

Слайд 25

Напряженная сверхрешетка (strained superlattice)

Напряженная сверхрешетка
(strained superlattice)

Слайд 26

1.2.3. Моделирование атомных конфигураций (simulation of atomic configurations) rj rji ri

1.2.3. Моделирование атомных конфигураций
(simulation of atomic configurations)

rj

rji

ri

Молекулярная динамика (molecular

dynamics)

Потенциалы межатомного парного взаимодействия

φji = Aexp(-arji) + Bexp(‑brji) - Morse potential

φji = ε[(r0/rji)12 – 2(r0/rji)6 ] - Lennard-Jones potential

φji = Aexp(-arji) - Born-Mayer potential  


Слайд 27

Молекулярная механика (molecular mechanics)

Молекулярная механика (molecular mechanics)

Слайд 28

The water density exhibits layering for liquid water (red/orange). Pores of

The water density exhibits layering for liquid water (red/orange).
Pores of

radii smaller than 0.45 nm predominantly contain water vapour (dark blue) although they are still much wider than single water molecules.

Моделирование методом молекулярной динамики
заполнения водой пор гидрофобного материала

Слайд 29

1.3.1. Квантовые колодцы (quantum wells)* 1.3. Структуры с квантовым ограничением внутренним

1.3.1. Квантовые колодцы (quantum wells)*

1.3. Структуры с квантовым ограничением внутренним

электрическим полем

Правило Андерсона (Anderson rule)

ΔEc = EcB – EcA = χA – χB

ΔEv = EgB – EgA – ΔEc

R. L. Anderson, Germanium-gallium arsenide heterojunction, IBM J. Res. Dev. 4(3), 283-287 (1960).

Слайд 30

Тип I Тип IIА Тип IIВ пространственно прямозонный пространственно непрямозонный Периодические квантовые колодцы (multiquantum wells)

Тип I

Тип IIА

Тип IIВ

пространственно прямозонный

пространственно непрямозонный

Периодические квантовые колодцы (multiquantum wells)

Слайд 31

1.3.2. Модуляционно-легированные структуры (modulation-doped structures)* EF EF ΔEc semiconductor A semiconductor

1.3.2. Модуляционно-легированные структуры
(modulation-doped structures)*

EF

EF

ΔEc

semiconductor A

semiconductor B

Ec

Ec

2DEG

T = 0 K

T

> 0 K
Слайд 32

1.3.3. Дельта-легированные структуры (delta-doped structures)*

1.3.3. Дельта-легированные структуры
(delta-doped structures)*

Слайд 33

1.4.1. Структуры металл/диэлектрик/полупроводник (metal/insulator/semiconductor structures)* 1.4. Структуры с квантовым ограничением внешним электрическим полем

1.4.1. Структуры металл/диэлектрик/полупроводник (metal/insulator/semiconductor structures)*

1.4. Структуры с квантовым ограничением
внешним

электрическим полем
Слайд 34

1.4.2. Структуры с расщепленным затвором (split-gate structures)*

1.4.2. Структуры с расщепленным затвором
(split-gate structures)*