Параметры ионных источников. Конструктивные элементы ионных источников

Содержание

Слайд 2

Лекция 12 Слайд 2 Ионный источник – устройство для получения в

Лекция 12 Слайд 2

Ионный источник – устройство для получения в вакууме ионного

пучка – пространственно сформированного потока ионов, скорость направленного движения которых много больше их тепловых скоростей.
Ионный источник состоит из собственно источника ионов и устройства их экстракции. Атомы ускоряемых элементов могут вводиться в ионный источник либо напуском (в виде газа), либо испарением (жидкой или твердой примеси). В ионном источнике они ионизируются и вытягиваются соответствующим потенциалом, приобретая нужную энергию.
К источнику ионов предъявляют следующие требования:
стабильность пучка во времени;
получение нужных ионов с определенным зарядом;
получение нужной плотности ионного тока.
Слайд 3

Лекция 12 Слайд 3 Важнейшие параметры ионного источника: полный ток и

Лекция 12 Слайд 3

Важнейшие параметры ионного источника:
полный ток и плотность тока ионного

пучка;
энергия ионов;
характерный поперечный размер пучка;
качество пучка, его пространственная и скоростная сформированность – эффективный угол расходимости и энергетический разброс ионов;
компонентный состав пучка – положительные и отрицательные ионы, атомарные, молекулярные, многозарядные ионы;
газовая эффективность – отношение потока сформированных ионов к потоку газа, подаваемого в ионный источник;
энергетическая эффективность ионного источника – отношение мощности пучка к мощности потребляемой ионным источником от сети.
Слайд 4

Лекция 12 Слайд 4 Существуют различные типы источников ионов: с горячим,

Лекция 12 Слайд 4

Существуют различные типы источников ионов: с горячим, холодным

и полым катодами; дуоплазмотроны; источники с ВЧ- и СВЧ - возбуждением; с поверхностной ионизацией.
В ионном источнике обеспечивается возбуждение атомов рабочего газа до энергии, превышающей потенциал ионизации атома, для образования положительно заряженных ионов.
Слайд 5

Лекция 12 Слайд 5 Обычно ионные источники включают следующие конструктивные элементы:

Лекция 12 Слайд 5

Обычно ионные источники включают следующие конструктивные элементы:
разрядную или ионизационную

камеру, которая является несущей конструкцией источника;
анод, предназначенный для создания электрического поля внутри разрядной камеры;
источник электронов (термокатод), инжектирующий электроны для ионизации газа;
магнитную систему, повышающую эффективность ионизации и плотность плазмы;
электроды, экстрагирующие ионы, и электроды первичной фокусировки пучка.
Слайд 6

Лекция 12 Слайд 6 Работу источника ионов обеспечивают вспомогательные устройства: система

Лекция 12 Слайд 6

Работу источника ионов обеспечивают вспомогательные устройства:
система подачи

газа;
устройство испарения вещества;
источники питания.
Любой ионный источник состоит из двух основных узлов:
эмиттера ионов,
электростатической системы, с помощью которой ионы извлекаются, ускоряются и формируются в направленный поток – ионно-оптическая система (ИОС).
Слайд 7

Лекция 12 Слайд 7 В простейшем виде ионный источник состоит из

Лекция 12 Слайд 7

В простейшем виде ионный источник состоит из эмиттера и

ускоряющего электрода – экстрактора с отверстием для выхода ионного пучка.
Для дополнительной фокусировки ускоренного пучка используются электростатические и магнитные линзы.
ИОС различных ионных источников строятся по единому принципу, и главным фактором, определяющим тип ионный источник, является метод создания эмиттера ионов.
Слайд 8

Лекция 12 Слайд 8 В зависимости от физической природы эмиттера ионов

Лекция 12 Слайд 8

В зависимости от физической природы эмиттера ионов различают несколько

типов ионных источников:
с поверхностной ионизацией, где эмиттером ионов служит поверхность накалённого материала, работа выхода которого превышает потенциал ионизации падающих на него атомов;
плазменные, в которых ионы отбираются с поверхности плазмы, образуемой в большинстве случаев с помощью газового разряда;
"полевые", в которых ионы образуются благодаря действию сильного электрического поля (~108 В/см) на и вблизи поверхности твёрдого тела, ионы которого необходимо получить.
В установках для элементного и структурного анализа, использующих ионные пучки, применяются исключительно плазменные ионные источники.
Слайд 9

Лекция 12 Слайд 9 Наиболее широко используемым плазменным ионным источником является

Лекция 12 Слайд 9

Наиболее широко используемым плазменным ионным источником является дуоплазмотрон
1 –

катод из вольфрама или гексаборида лантана;
2 – промежуточный анод;
4 – анод;
3 – соленоид, создающий магнитное поле ~ кГс;
5 – вытягивающий электрод
ионно-оптической системы.
Анод и промежуточный анод
изготовлены из ферромагнитного материала
и образуют магнитную цепь.
Слайд 10

Лекция 12 Слайд 10 В дуоплазмотроне для увеличения степени ионизации столб

Лекция 12 Слайд 10

В дуоплазмотроне для увеличения степени ионизации столб разряда

подвергается механическому и магнитному, сжатию с помощью диафрагм и магнитного поля, нарастающего к анодному отверстию малого диаметра. Сжатие разрядной дуги в узком канале промежуточного электрода сопровождается возникновением плазменного "пузыря" со скачком потенциала в слое, отделяющем катодную плазму А от более плотной анодной плазмы С.
В тонком слое В ускоряются и фокусируются электроны, выходящие из плазменной области А в плазменную область В. Вблизи анода 4 плотная плазма дополнительно сжимается сильным неоднородным магнитным полем, сечение плазмы вблизи выходного отверстия уменьшается, а концентрация ионов в плазме возрастает до 1014–1015 см -3. Такая плазма эмитирует ионы с плотностью в десятки А/см2, т. е. образуется "точечный" эмиттер.
Слайд 11

Лекция 12 Слайд 11 Давление рабочего газа в промежуточном аноде составляет

Лекция 12 Слайд 11

Давление рабочего газа в промежуточном аноде составляет ~

10-2 Тор.
Дуоплазматрон позволяет получать ионы газообразных элементов с высокой плотностью ионного тока. Рабочий газ, ионы элементов которого необходимо получить, поступает в область промежуточного электрода через регулируемый натекатель. Среди других ионных источников дуоплазматрон отличается высокой газовой эффективностью.
Слайд 12

Лекция 12 Слайд 12 Дуоплазматрон требует достаточно сложного электропитания, которое включает:

Лекция 12 Слайд 12

Дуоплазматрон требует достаточно сложного электропитания, которое включает:
питание накала

катода (в случае W катода U = 5-10 В, I = 10-40 А);
питание промежуточного анода U = 0-100 В, I = 0-0,5 А;
питание анода U = 0-250 В, I = 0,5-2 А;
питание соленоида U = 0-10 В, I = 0-50 А.
все эти источники питания находятся под высоким положительным ускоряющим потенциалом, определяющим энергию ионов, вытягиваемых из ионного источника.
Слайд 13

Лекция 12 Слайд 13 Второй тип ионного источника, также широко используемый

Лекция 12 Слайд 13

Второй тип ионного источника, также широко используемый в

различных методиках анализа – ионный источник с холодным катодом или ионный источник Пеннинга.
В данном ионном источнике зажигание газового разряда осуществляется за счет пробоя газового промежутка катод-анод, между которыми прикладывается напряжение несколько сотен вольт. Напряжение на разрядном промежутке должно быть минимальным для зажигания и поддержания стабильного газового разряда. Напряжение зажигания зависит от материла катода. Для большинства материалов оно составляет несколько кВ. Однако, для некоторых "низковольтных" материалов", таких как алюминий, магний, оно составляет сотни вольт. У этих материалов тонкая окисная пленка на поверхности понижает напряжение зажигания за счет того, что окисная пленка является диэлектриком, а у диэлектриков большой коэффициент ионно-электронной эмиссии.
Слайд 14

Лекция 12 Слайд 14 Газовый разряд горит в продольном магнитном поле,

Лекция 12 Слайд 14

Газовый разряд горит в продольном магнитном поле, создаваемом,

как правило, постоянным магнитом с индукцией несколько кГс, между двумя катодами и кольцевым анодом. Катоды источника изготавливаются из алюминия, корпус – из мягкого железа для замыкания магнитных линий. Эмиссия электронов из катодов происходит за счет их бомбардировки ионами разряда. За счет приложенного магнитного поля электроны движутся по спирали, что увеличивает их путь и число ионизирующих соударений на пути катод-анод.
Давление рабочего газа в ионном источнике 10-3-10-4 Тор.
Извлекаемый ионный ток в стационарном режиме до нескольких миллиампер.