Содержание
- 2. План доклада Общие принципы малоуглового рассеяния. Примеры использования SANS , USANS и SAXS для изучения мезоструктуры
- 3. Общие принципы малоуглового рассеяния
- 4. Общие принципы малоуглового рассеяния
- 5. В экспериментах по рассеянию интересен размер изучаемого объекта. Он характеризуется величиной, обратной переданному при рассеянии импульсу:
- 6. Золь-гель системы – фрактальные объекты Schaefer D.W., Keefer K.D. Fractal geometry of silica condensation polymers //
- 7. Форм фактор частицы: Плотность амплитуды рассеяния: Фактор P(Q) связан с форм фактором частицы: Структурный фактор S(Q)
- 8. Неоднородности с гладкой границей Неоднородности с гладкой поверхностью и распределением рассеивающей плотности: где: r0 ⎯ радиус
- 9. Массовый (объемный) фрактал Тогда, согласно [1], корреляционная функция имеет вид: Структурный фактор: При условии 1/ξ [1]Teixera,
- 10. Поверхностный фрактал Согласно [2,3] , корреляционная функция для поверхностного фрактала имеет вид: где: N0 ⎯ характеристика
- 11. «Диффузная» поверхность Специфический класс поверхностей с распределением рассеивающей плотности вблизи границы неоднородности [4]: где: r ⎯
- 12. Общие принципы малоуглового рассеяния
- 13. Схема установки и параметры SANS-2 Параметры установки SANS - 2: · λ= 3÷20Å с δλ/λ =
- 14. SANS
- 15. Установка ультра малоуглового рассеяния нейтронов DCD (USANS)
- 16. Instrument Parameters Схема и основные параметры DCD “MAUD” (NPI, реактор LVR-15, Прага, Чехия)
- 17. JCNS, реактор FRM-II, Garching, Germany Расстояние от образца до детектора 10 м, 1м Длина волны λ
- 18. λ = 1.54 Å Расстояние от образца до детектора: 2254 mm и 418 mm Двумерный детектор
- 19. Мезоструктура и фрактальные свойства аморфных ксерогелей гидратированных ZrO2 и HfO2 и продуктов их термической и гидротермальной
- 20. Изучение влияния кислотности (pH) среды на фрактальную структуру аморфных ксерогелей гидратированных диоксидов ZrO2 и HfO2, синтезированных
- 21. Схема синтеза ксерогелей ZrO2 ZrO2∙xH2O + NO3– или NH4+
- 22. Фрактальные размерности для аморфных ксерогелей ZrO2 и HfO2 от рН. Результаты Зависимости МУРН и УМУРН для
- 23. Зависимости радиусов мономеров r0 и агрегатов R0 для аморфных ксерогелей гидратированных ZrO2 (a) и HfO2 (b)
- 24. Отжиг Импульсные зависимости дифференциального сечения dΣ(q)/dΩ МУРН образцом ксерогеля ZrO2 с pH = 6, полученные при
- 25. Зависимость показателя степени β от температуры отжига для образцов с диффузной поверхностью, форми-рующихся при термической обработке
- 26. Зависимости максимального размера индивидуальных частиц r0 в образцах гидратированного ZrO2, синтезированных при различных значениях pH ,
- 27. Гидротермальная обработка Импульсные зависимости dΣ(q)/dΩ МУРН образцом ксерогеля ZrO2 с pH = 7, полученные при разных
- 28. Гидротермальная обработка Зависимости фрактальной размерности DS поверхности раздела фаз в образцах ксерогелей на основе гидроксида ZrO2
- 29. Влияние ультразвуковой обработки на мезоструктуру аморфных ксерогелей гидратированного ZrO2, синтезированного из пропилата циркония Zr(OPr)4
- 30. Влияние ультразвуковой обработки на мезоструктуру аморфных ксерогелей гидратированного ZrO2, синтезированного из пропилата циркония Zr(OPr)4 Зависимости дифферинциального
- 31. Влияние ультразвуковой обработки на мезоструктуру аморфных ксерогелей гидратированного ZrO2, синтезированного из пропилата циркония Zr(OPr)4 Зависимости фрактальной
- 32. Выводы Методами МУРН и УМУРН исследована мезоструктура аморфных ксерогелей гидратированного диоксида циркония. Впервые показано, что pH
- 33. Механизм роста наночастиц диоксида циркония при отжиге и гидротермальной обработке
- 34. Изучение закономерностей изменения размеров частиц в нанодисперсных порошках диоксида церия с различной химической предысторией при нагревании
- 35. Высокотемпературный рост наночастиц диоксида церия Распределения частиц по размерам для образцов CeO2-x, синтезированных быстрым осаждением из
- 36. Механизм роста наночастиц диоксида церия в гидротермальных условиях Зависимости сечения dΣ(q)/dΩ МУРН образцами Ce-1 (1), Ce-210-15
- 37. Функции распределения по размерам частиц DV(R) для образцов, синтезированных при различных температурах и продолжительностях ГТМВ обработки
- 38. Выводы Данные МУРН свидетельствуют о том, что рост частиц CeO2 в процессе отжига происходит не посредством
- 39. Мезоструктура новых прозрачных пористых стекол на основе диоксида циркония Н.Н. Губанова, Г.П. Копица, К.В. Ездакова ПИЯФ
- 40. Цель работы Разработка методов синтеза новых прозрачных пористых стекол на основе диоксида циркония, без введения в
- 41. Схема синтеза Фотография стекол на основе ZrO2
- 42. УМУРН , МУРН и МУРР Зависимости дифференциального сечения dΣ(q)/dΩ МУРН образцами прозрачных стекол на основе диоксида
- 43. Параметры мезоструктуры стекол на основе ZrO2,
- 44. Модель структуры стекол на основе ZrO2 Частицы с гладкой поверхностью Агломераты с диффузной поверхностью Агрегаты, являющиеся
- 45. Выводы Впервые, с помощью золь-гель метода, синтезированы образцы монолитных прозрачных стекол на основе диоксида циркония. Проведено
- 46. Мезоструктура биоактивных покрытий для каменных материалов на основе эпоксидно-силоксановых золей, модифицированных наноалмазами Г.П. Копица ПИЯФ НИЦ
- 47. Проблема биоповреждения каменных памятников, зданий и сооружений SEM-микрофотография патины, обогащенной гипсом между кристаллами которого наблюдаются водоросли
- 48. Способы защиты от биоразрушений Покрытия на основе «жёстких» биоцидов (соли тяжёлых металлов, элементорганические соединения P, Sn
- 49. Объект исследования Технологическая схема синтеза эпоксидно-силоксановых композиций и биоактивных покрытий Патент РФ № 2382059, приор. от
- 50. SAXS и USAXS Унифицированное экспоненциально-степенное выражение для n-уровневых фрактальных структур Кривые USAXS и SAXS для ЭПС
- 51. Методами USAXS и SAXS проведено исследование структурообразование в эпоксидно-силоксановых композиции с соотношением основных прекурсоров (ТЭОС/EPONEX =
- 53. Скачать презентацию