Слайд 9
![ОСОБЕННОСТИ ТЕХНОЛОГИИ Технологическое значение технологии магнетронного распыления состоит в том, что](/_ipx/f_webp&q_80&fit_contain&s_1440x1080/imagesDir/jpg/1472860/slide-8.jpg)
ОСОБЕННОСТИ ТЕХНОЛОГИИ
Технологическое значение технологии магнетронного распыления состоит в том, что ионы,
бомбардирующие поверхность мишени (катода), распыляют её. Этот эффект положен в основу методики магнетронного травления, а за счет того, что, осаждаясь на подложку, распыленное вещество мишени способно формировать плотную плёнку, магнетронное распыление получило сегодня широкое применение.
Распыление мишени
Момент импульса передается материалу при столкновении заряженных ионов с поверхностью мишени. Падающие ионы вызывают целый каскад столкновений, после импульс доходит непосредственно до атома, который располагается на поверхности, отрывается от мишени и оказывается на подложке. Среднее количество атомов, выбиваемых одним падающим ионом аргона, принято называть эффективностью процесса, зависящей от энергии и массы иона, угла падения, энергии связи атомов и массы испаряемого материала. Если материал имеет кристаллическую решетку, эффективность также зависит от ее расположения.
Частицы, покидающие поверхность мишени осаждаются на подложке в виде пленки, при этом некоторые из них рассеиваются на молекулах остаточного газа или осаждаются на стенках вакуумной камеры.