Содержание
- 2. Тенденции в изменении длин затворов и шага металлизации (а) и (b) минимального разрешения и глубины фокуса
- 3. В настоящее время локальные и среднего уровня соединения в основном масштабируются по длине, время задержки, в
- 4. Относительное время задержки логической схемы для локальных и глобальных межсоединений. Важнейшей тенденцией является увеличение времени RC
- 5. Дальнейшее укрупнение микропроцессорного чипа вызывает серьезные опасения, так как время задержки пропорционально квадрату длины межсоединений. Такие
- 6. Ещё одним следствием масштабирования является увеличение емкости боковых стенок проводников, так как расстояние между проводниками уменьшается.
- 7. По мере того, как рабочее напряжение транзистора при масштабировании уменьшается, межсоединительные помехи и уровень шума также
- 8. Моделирование межсоединительной емкости в зависимости от ширины линии, в предположении фиксированной высоты металла и постоянного «шага».
- 9. В типичной конструкции с высокими рабочими характеристиками применяется металлизация по иерархическому типу или по схеме так
- 10. Проблемы металлизации, требующие решения 1. Разработка надежных материалов с пониженной диэлектрической проницаемостью (k менее 2,5) -
- 11. Концепция Damascene Впервые медные межсоединения были использованы в производстве УБИС в 1997 г. Замена алюминиевых схем
- 12. Сравнение протекания процессов производства структур межсоединений в процессе Дамасин и в субтрактивном процессе. Обычное плазменное травление,
- 13. СКАН фотография (а) вскрытого образца с канавками для шин и переходными отверстиями в диэлектрике с малым
- 14. Существует два типа Damascene – технологии: Простая и сдвоенная (SD и DD). В простом процессе переходные
- 16. Медные межсоединения, сформированные в SD процессе, когда шины и контакты формируются раздельно, легче контролируются по геометрии
- 17. Технологические проблемы создания медных межсоединений 65 нм технологии и ниже
- 18. В целом решаются следующие проблемы: CD: воспроизведение критических размеров, LER: неровность края линий (line edge roughness)
- 19. Low Dielectric Constant (Low-k) Materials Oxide Derivatives F-doped oxides (CVD) k = 3.3-3.9 C-doped oxides (SOG,
- 20. Dielectric constants can be lowered via porosity (air = 1).
- 22. Проблемы использования Low-κ материалов
- 23. В производстве может использоваться несколько вариантов сдвоенного техпроцесса: сначала формируют переходные контактные отверстия или 2. сначала
- 24. Dual Damascene (DD): Осаждение пленок межслойного и диффузионного барьерного слоев 2. Формирование переходных контактных окон в
- 25. В случае ДД межсоединений, канавки и переходные контактные отверстия под будущие шины разводки и контакты в
- 27. Процесс с фоторезистивной маской (PR)
- 29. Пояснения к рис 20.4. Для формирования DD медной разводки используется последовательность операций с первичным формированием переходных
- 30. Пояснения к рис 20.4 (продолжение) 2. На BARC (bottom anti-reflection coating) наносится фоторезист, чтобы сформировать образ
- 31. Фотография поперечного сечения медных Damascene межсоединений в (а) обычном осажденном в процессе плазменного CVD пористом SiOCH
- 32. В данном случае образцы были обработаны в растворе разбавленной HF, чтобы стравить слой SiO2, который образовался
- 34. Кода структура ILD «стека» включает азот содержащие компоненты, такие как SiN или SiCN, то в процессе
- 35. «Отравление» фоторезиста исключается за счет тщательного контроля за составом травящего газа и составом межслойного диэлектрика. Другим
- 38. Процесс с твердой маской (HM)
- 39. Технологический процесс с использованием многослойной жесткой маски был разработан, чтобы избежать повреждений боковых стенок low-k межслойного
- 41. Следует отметить, что на этой стадии нижняя твердая маска не протравливается, чтобы оставить покрытым ILD пленку.
- 42. Другой случай создания MHM маски предусматривает последовательность операций получения сначала канавки с использованием двойной маски (DHM)
- 43. В итоге проводится травление канавок шин и переходных контактных отверстий в ILD, покрывающая пленка удаляется в
- 45. Рис. 20.10 иллюстрирует сдвиг совмещения верхних шин (М2) и переходных контактных окон (V1) (М2- V1) для
- 46. Рис. 20.10с показывает выход годных шины с шагом 0,28 мкм, с 0,14 мкм переходными контактными отверстиями
- 47. СКАН фотография DD Cu межсоединений с (а) расширением верхней части линии (LTS) и (b) рваность края
- 48. В дополнение к рассовмещению есть большое количество спорных вопросов к процессу с многослойной маской, таких как
- 49. Решение, позволяющее преодолеть эти эффекты – покрыть боковые стенки канавок шин слоем тонкой защищающей боковые поверхности
- 52. Как показано на рис. 20.12, тонкая SPL пленка конформно осаждается на профилированный low-k ILD и травится
- 53. Для производства межсоединений по ДД технологии, канавки шин и переходные контактные отверстия последовательно формируются в пленке
- 55. Скачать презентацию