Содержание
- 2. Ідеальна МДН структура Структура метал-діелектрик-напівпровідник (МДН-структура). Зонні діаграми ідеальних МДН структур при V=0. а- напівпровідник n–типу;
- 3. де ϕm - робота виходу металу; χ- спорідненість до електрону напівпровідника, Eg- ширина забороненої зони, ψB
- 4. Зонні діаграми МДН-структури при V≠0. а- режим акумуляції: б- режим збіднення; в- режим інверсії. 1) Якщо
- 5. 2) Якщо до МДН структури прикладена не дуже велика додатна напруга (V>0), зони вигинаються в оберненому
- 6. Приповерхнева область просторового заряду Зонна діаграма приповерхневої області напівпровідника p-типу. Потенціал ψ визначений по відношенню до
- 7. Характерні інтервали зміни поверхневого потенціалу ψs: ψs ψs=0 – стан плоских зон; ψB>ψs>0 – режим збіднення
- 8. В результаті рівняння Пуасона перепишеться як Інтегрування рівняння Дає співвідношення, яке зв’язує електричне поле (E≡-dψ/dx) і
- 9. Тоді електричне поле При цьому знак + потрібно використовувати при ψ>0 , а знак – при
- 10. Залежність густини об’ємного заряду (на одиницю площі границі розділу) від поверхневого потенціалу ψs для кремнію p
- 11. В стані плоских зон, тобто при ψs=0, CD можна легко визначити, розклавши в ряд відповідні експоненти.
- 12. Характеристики ідеальної МДН структури Зонна діаграма ідеальної МДН структури (а) і розподіл зарядів (в умовах інверсії)
- 13. Повна ємність структури що відповідає послідовному з’єднанню ємності напівпровідника CD і ємності діелектрика Ci=εi/d. Остання визначається
- 14. Залежність ємності ідеальної МДН структури від напруги при від’ємних значеннях останньої відповідає акумуляції дірок біля границі
- 15. Крива (в) на рисунку відповідає вольт-фарадній характеристиці ідеальної МДН структури в умовах глибокого збіднення (імпульсна напруга
- 16. Характерні значення поверхневого потенціалу: В ідеальній МДН структурі стан плоских зон ψs=0 реалізується при нульовому зміщенні
- 17. Важливою величиною є так звана напруга включення (порогова напруга) VT, при якій починається сильна інверсія. де
- 18. C-V криві ідеальних МДН-структур. Суцільними лініями показані низькочастотні характеристики, а штриховими – високочастотні. В структурах з
- 19. Si-SiO2-МДН-структури Заряди в МДН структурі Класифікація зарядів присутніх в термічно окисленому кремнії. Qi Ni=Qi/q 1.Заряд захоплений
- 20. Заряд захоплений поверхневими пастками Основна причина виникнення поверхневих станів в забороненій зоні напівпровідника полягає в тому,
- 21. Заповнення поверхневих станів, так як і об’ємних, визначається розподілом Фермі для донорних поверхневих пасток і для
- 22. Витягування C-V кривих за рахунок поверхневих станів. При високих частотах (ωτ>>1) заряд на поверхневих станах не
- 23. Густина поверхневих станів в термічно окисленому кремнії. Поблизу середини забороненої зони Dit змінюється відносно слабо, але
- 24. Фіксований заряд Зсув C-V кривих вздовж осі напруг, обумовлений позитивним чи нагативним фіксованим зарядом окисла. a-
- 25. Вплив фіксованого заряду окисла на властивості МДН-структур. Для повної електронейтральності структури необхідно, щоб кожен від’ємний заряд
- 26. Заряд рухливих іонів Розподіл концентрації іонів натрію по товщині плівок двоокису кремнію і нітриду кремнію при
- 27. Щоб запобігти проникнення рухливого іонного заряду в окисел в процесі робочого циклу приладів, можна використовувати непроникні
- 28. МДН-структура з фіксованим і захопленим в окислі зарядами. а- зонна діаграма; б- розподіл заряду; в- електричне
- 29. Результуючий зсув напруги плоских зон ΔVFB, обумовлений всіма компонентами заряду в окислі, є cума відповідних ефективних
- 30. Різниця робіт виходу В ідеальній МДН структурі різниця робіт виходу електрона з металу і напівпровідника рівна
- 31. Зонна діаграма (а) структури Al-SiO2-Si з товщиною окисла 50 нм і NA=1016 см-3 і залежність (б)
- 32. Залежність фотовідгуку МОН структури з різними металічними електродами від енергії фотонів. На вставці наведені відповідні C-V
- 33. Спостерігається спів падіння значень qϕm визначених вольт-фарадним і фотоемісійним методами. Проте спостерігається помітна відмінність цих значень
- 34. Вплив температури, світла, іонізуючих випромінень, лавинної інжекції Вплив температури Заряд інверсійного шару в МОН структурах зв’язаний
- 35. Температурна залежність провідності. Еквівалентна схема МОН структури в режимі інверсії наведена на Рис.1. Температурні залежності повної
- 36. В цьому температурному діапазоні значення енергії активації 0,56 еВ практично співпадає з очікуваною величиною Eg/2. При
- 37. Вплив світла При опроміненні МОН структури світлом збільшується високочастотна ємність структури на ділянці C-V кривої, що
- 38. Вплив іонізуючих випромінювань Основний процес, що обумовлює зміну характеристик МОН структур під дією іонізуючих випромінювань таких
- 39. Вплив лавинної інжекції Лавинна інжекція в окисел може відбуватися в МОН структурах при їх роботі в
- 40. Залежність напруги пробою МДН-структури в умовах глибокого збіднення від концентрації домішки в підкладці. На вставці показано
- 41. Залежність ємності і провідності МДН-структури від напруги до та після лавинної інжекції електронів в окисел. Відмітимо,
- 42. Слід відмітити, що лавинна інжекція або інжекція гарячих носіїв має безпосереднє відношення до вибору робочих режимів
- 44. Скачать презентацию