Принцип работы сканирующего туннельного микроскопа (СТМ). Получение изображения поверхности в режиме постоянного туннельного то

Содержание

Слайд 2

Лекция 20 Слайд 2 Исторически первым в семействе зондовых микроскопов появился

Лекция 20 Слайд 2

Исторически первым в семействе зондовых микроскопов появился сканирующий туннельный

микроскоп (СТМ).
Он был создан в 1981 году Гердом Биннигом и Генрихом Рорером в научно-исследовательской лаборатории фирмы IBM в Цюрихе.
Пятью годами позже за это изобретение им присудили Нобелевскую премию по физике. СТМ был первым инструментом, который позволил получить изображение поверхности кремния с атомным разрешением.
Слайд 3

Лекция 20 Слайд 3 Принцип работы СТМ основан на явлении туннелирования

Лекция 20 Слайд 3

Принцип работы СТМ основан на явлении туннелирования электронов через

узкий потенциальный барьер между металлическим зондом и проводящим образцом во внешнем электрическом поле.
Схема туннелирования электронов через потенциальный барьер в СТМ.
Слайд 4

Лекция 20 Слайд 4 В СТМ зонд подводится к поверхности образца

Лекция 20 Слайд 4

В СТМ зонд подводится к поверхности образца на

расстояния в несколько ангстрем. При этом образуется туннельно-прозрачный потенциальный барьер, величина которого определяется, в основном, значениями работы выхода электронов из материала зонда еϕр и образца еϕs. При качественном рассмотрении барьер можно считать прямоугольным с эффективной высотой, равной средней работе выхода материалов:
еϕ* = (еϕр + еϕs)/2.
Как известно из квантовой механики, вероятность туннелирования электрона (коэффициент прохождения) через одномерный барьер прямоугольной формы равна
где A0 – амплитуда волновой функции электрона, движущегося к барьеру; At – амплитуда волновой функции электрона, прошедшего сквозь барьер; k – константа затухания волновой функции в области, соответствующей потенциальному барьеру; Δz – ширина барьера.
Слайд 5

Лекция 20 Слайд 5 Энергетическая диаграмма туннельного контакта двух металлов Для

Лекция 20 Слайд 5

Энергетическая диаграмма туннельного контакта двух металлов
Для туннельного контакта двух

металлов константа затухания
Слайд 6

Лекция 20 Слайд 6 При приложении к туннельному контакту разности потенциалов

Лекция 20 Слайд 6

При приложении к туннельному контакту разности потенциалов V между

зондом и образцом появляется туннельный ток. В процессе туннелирования участвуют, в основном, электроны с энергией вблизи уровня Ферми EF . В случае контакта двух металлов выражение для плотности туннельного тока имеет вид
где параметры j0 и А определяются следующими выражениями:
Слайд 7

Лекция 20 Слайд 7 При условии малости напряжения смещения V Так

Лекция 20 Слайд 7

При условии малости напряжения смещения V << ϕ данное

выражение существенно упрощается
Так как экспоненциальная зависимость очень сильная, то для оценок и качественных рассмотрений можно пользоваться упрощенной формулой
в которой величина j0(V) считается не зависящей от изменения расстояния зонд-образец.
Для типичных значений работы выхода (еϕ ~ 4 эВ) значение константы затухания k = 2 Å-1, так что при изменении Δz на ~ 1 Å величина туннельного тока меняется на порядок.
Слайд 8

Лекция 20 Слайд 8 Экспоненциальная зависимость туннельного тока от расстояния позволяет

Лекция 20 Слайд 8

Экспоненциальная зависимость туннельного тока от расстояния позволяет осуществлять регулирование

расстояния между зондом и образцом в туннельном микроскопе с высокой точностью.
Так как СТМ представляет собой электромеханическую систему с отрицательной обратной связью, то с ее помощью можно поддерживать величину туннельного тока между зондом и образцом на заданном уровне I0, выбираемом оператором.
В каждой точке растра происходит перемещение зонда на величину Δz таким образом, чтобы величина It оказалась равной I0.
Слайд 9

Лекция 20 Слайд 9 Метод постоянного туннельного тока зонд перемещается вдоль

Лекция 20 Слайд 9

Метод постоянного туннельного тока
зонд перемещается вдоль поверхности, осуществляя сканирование

по растру;
изменение напряжения на Z-электроде пьезоэлемента в цепи ОС (с большой точностью повторяющее рельеф поверхности образца) записывается в память компьютера в виде функции z = f(x,y), а затем воспроизводится средствами компьютерной графики.
Слайд 10

Лекция 10 Слайд 10 Метод постоянной высоты (Z = const) Более

Лекция 10 Слайд 10

Метод постоянной высоты (Z = const)
Более эффективный при

исследовании атомарно гладких поверхностей.
Зонд перемещается над поверхностью на расстоянии нескольких ангстрем, при этом изменения туннельного тока регистрируются в качестве СТМ изображения поверхности.
Сканирование производится либо при отключенной ОС, либо со скоростями, превышающими скорость реакции ОС, так что ОС отрабатывает только плавные изменения рельефа поверхности.
Слайд 11

Лекция 20 Слайд 11 Высокое разрешение СТМ по оси Z (доли

Лекция 20 Слайд 11

Высокое разрешение СТМ по оси Z (доли ангстрема)

определяется экспоненциальной зависимостью туннельного тока от расстояния до поверхности. Подобное разрешение определяется, в основном, не макроскопическим радиусом кривизны кончика острия зонда, а его атомарной структурой. При правильной подготовке зонда на его кончике с большой вероятностью находится либо одиночный выступающий атом, либо небольшой кластер атомов c размерами много меньше, чем характерный радиус кривизны острия
Слайд 12

Лекция 20 Слайд 12 Для неоднородных образцов туннельный ток является не

Лекция 20 Слайд 12

Для неоднородных образцов туннельный ток является не только

функцией расстояния от зонда до образца, но также зависит от значения локальной работы выхода электронов в данном месте поверхности.
Метод модуляции расстояния зонд-образец Δz применяется для получения информации о распределении работы выхода по поверхности образца в пределах растра.
В данном методе в процессе сканирования к управляющему напряжению на Z-электроде сканера добавляется переменное напряжение с внешнего генератора на частоте ω. Тогда напряжение на Z-электроде сканера можно представить в виде U = U0(t) + Umsinωt. Это приводит к тому, что расстояние зонд-образец оказывается промодулированным на частоте ω, т.е. Δz(t) = Δz0(t) + Δzmsinωt; Δzm и Um связаны между собой через коэффициент электромеханической связи пьезосканера K = Δzm /Um.
Слайд 13

Лекция 20 Слайд 13 Частота модуляции ω выбирается выше частоты полосы

Лекция 20 Слайд 13

Частота модуляции ω выбирается выше частоты полосы пропускания

петли обратной связи, чтобы система обратной связи не могла отрабатывать данные колебания зонда. Амплитуда переменного напряжения Um выбирается достаточно малой, чтобы возмущения туннельного промежутка также были малыми.
Слайд 14

Лекция 20 Слайд 14 Колебания расстояния зонд-образец приводят к тому, что

Лекция 20 Слайд 14

Колебания расстояния зонд-образец приводят к тому, что появляется

переменная составляющая тока на частоте ω и выражение для туннельного тока принимает вид
Так как Δzm << Δz0, то экспоненту можно разложить по порядку малости Δzm/Δz0, поэтому выражение для туннельного тока как функция времени может быть представлено в виде
Слайд 15

Лекция 20 Слайд 15 Если использовать синхронный детектор и проводить измерения

Лекция 20 Слайд 15

Если использовать синхронный детектор и проводить измерения It

на частоте ω, то в каждой точке растра (xy) измеряемая амплитуда частотной модуляции туннельного тока может быть представлена в виде
Таким образом можно построить одновременно с рельефом z = f(x,y) распределение величины локальной работы выхода еφ(x,y) на исследуемом участке поверхности.